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yp街机上海前段半导体制造洗濯装备Ultra C Tahoe取得主要性能突破

2024/11/11 19:07:40

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     yp街机(以下简称“yp街机上海”)(科创板股票代码::688082),作为一家为半导体前道和先进晶圆级封装应用提供晶圆工艺解决方案的卓越供应商,今天宣布旗下洗濯装备产品Ultra C Tahoe取得主要性能突破。此次提升能够知足更先进的晶圆代工、逻辑器件及存储器件的严酷手艺要求。

    Ultra C Tahoe的专利混淆架构率先实现将槽式洗濯模块和单片晶圆洗濯腔体连系到统一SPM装备中。该架构具备更强的洗濯性能、更高的产能和更好的工艺无邪性。在中低温硫酸 (SPM)洗濯工艺中,Ultra C Tahoe可以抵达自力单片晶圆洗濯装备的效果,并可镌汰高达75%的化学品消耗。据yp街机上海估算,仅硫酸一项每年就可节约高达50万美元的本钱,且在硫酸废液处理上可进一步降低本钱并对情形更友好。

    yp街机上海董事长王晖博士体现::“随着人工智能一直走近消耗者生涯,我们预计公众会越来越关注半导体芯片制造对情形污染的影响。我们相信,yp街机上海的Ultra C Tahoe能够资助客户提高先进人工智能芯片的产量,同时镌汰对情形的影响。”
“yp街机上海拥有一支富有创立力的研发团队,Ultra C Tahoe再次见证了该团队的优异体现。我们相信,Tahoe平台完全有能力在约占整个洗濯市场20%份额的SPM中低温应用领域占有主要职位。


    中国大陆多家大型晶圆厂客户已将升级后的Ultra C Tahoe投入生产。多家其他逻辑器件和存储器客户正在对该装备举行评估,预计更多装备将在2024年底之前交付。


    升级版Ultra C Tahoe的新功效和优势::


· 更强的颗粒去除性能::Tahoe平台具备强盛的洗濯能力,在26纳米颗粒测试中实现了平均颗粒数小于6个的标准,可知足先进节点制造的严酷要求。该装备未来会增添更细密的微粒过滤系统,能够去除1x纳米的微粒,可用于行业领先的逻辑和内存应用。

· 更高的产能::升级后的25槽的槽式模块(之前为13槽)和9个单晶圆腔体(之前为8个腔体)每小时产能凌驾200片晶圆,可与12腔体SPM系统媲美。

· 更好的本钱控制和环保水平::Ultra C Tahoe可将硫酸消耗量镌汰高达75%,从而降低大批量制造本钱并知足越来越严酷的环保规则以实现可持续开展的目的。

· 更普遍的工艺应用::已通过30+生产层认证,包括轻掺杂漏极 (LDD) 和源极/漏极(SD) 等要害生产流程,更多层和应用正在开发中。

· 更无邪的单晶圆洗濯应用::可选设置包括新型喷涂手艺、yp街机上海的专利SAPS/TEBO手艺以及HOT IPA干燥手艺,从而提高了该装备在多种工艺应用中的通用性。

 
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