yp街机上海进军涂胶/显影Track市场，，，以知足半导体集成电路制造商的光刻工艺需求
2022/11/18 12:56:35
yp街机(以下简称“yp街机上海”)（科创板股票代码：：688082），，，作为一家为半导体前道和先进晶圆级封装应用提供晶圆工艺解决方案的卓越装备供应商，，，今日乐成推出涂胶显影Track装备，，，标记着该公司已正式进军涂胶显影Track市场，，，这也是该公司提升其在洗濯、、、涂胶和显影领域内专业手艺的必定效果。yp街机上海于2013年开发了公司首个封装涂胶机和显影机，，，并于2014年交付了给客户。yp街机上海将于几周后向中国海内客户交付公司首台ArF工艺涂胶显影Track装备，，，并将于2023年推出i-line型号装备。别的，，，公司已最先着手研发KrF型号装备。
“我幸运地宣布，，，yp街机上海已正式进军Track市场，，，这将成为yp街机又一大新产品品类。Gartner1数据显示，，，2022年全球Track市场规模将达37亿美元，，，这是yp街机上海开展的新契机。得益于yp街机上海在软件和机械手手艺方面的焦点竞争力，，，加之涂胶显影装备的优良性能以及具有全球专利申请�；さ娜录芄�，，，我们可以依附竞争性产品及服务乐成进军Track市场，，，这也标记着我们在知足目今及未来前道光刻工艺需求中迈出了要害的第一步。鉴于全球逻辑及存储器制造商正在追求第二供应商，，，我们相信这款全新产品会有重大的需求潜力，，，”yp街机上海董事长王晖博士体现。
yp街机上海涂胶显影Track装备是一款应用于300毫米晶圆工艺的装备，，，可提供匀称的下降气流、、、高速稳固的机械手处理以及强盛的软件系统，，，从而知足客户特定需求。该装备功效多样，，，能够降低产品缺陷率，，，提高产能，，，节约总体拥有本钱（COO）。涂胶显影Track装备将支持包括i-line、、、KrF和ArF系统在内的种种光刻工艺。
涂胶显影Track装备支持光刻工艺，，，可确保知足工艺要求，，，同时让晶圆在光刻装备中曝光前后的涂胶和显影方法获得优化。该装备专为300毫米晶圆而设计，，，共有4个适用于12英寸晶圆的装载口，，，8个涂胶腔体、、、8个显影腔体。该装备腔体温度可精准控制在23°C ±0.1°C ，，，烘烤规模为50°C至250°C，，，晶圆破损率低于1/50,000 。别的，，，全球专利申请�；さ娜陆峁股杓苹箍赏卣怪С�12个涂胶腔体及12个显影腔体，，，每小时晶圆产能可达300片，，，未来在配备更多的涂胶和显影腔体的条件下还能抵达每小时400片以上的产能。
数据泉源：：
1. Forecast: Semiconductor Capital Spending, Wafer Fab Equipment and Capacity, Worldwide, 3Q22 Update
